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PECVD是借助于辉光放电等方法产生等离子体，辉光放电等离子体中：电子密度高109-1012cm3电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍，使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。通过反应气态放电，有效地利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式低温热等离子体化学气相沉积法具有气相法的所有优点，工艺流程简单。
\ 电源：支持外部射频电源常用标准接口（有射频电源的客户需提供现有射频电源的输出接口）
信号频率：13.56 MHz±0.005%
射频功率输出范围：0~100W 0-150W 0-500W (小店提供高质量国产射频电源 欢迎选购）
本店提供的射频线圈模块和市场上所有管式炉设备无缝对接 客户只需提供已有设备的长宽高尺寸即可
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小店提供实验室材料制备设备方案设计 非标定做及加工 如您在实验过程中遇到问题 欢迎咨询
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